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真空鉬絲爐

真空鉬絲爐

簡要描述： 真空鉬絲爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備

  • 生產地址：上海
  • 廠商性質：生產廠家
  • 更新時間：2025-05-12
  • 訪  問  量：3097
詳細介紹

真空鉬絲爐的詳細介紹

真空鉬絲爐具有*的性能設計，集多項于一身，安全性，可靠性，實用性均達*效果。

一、特點及用途

實驗室熱處理爐，底部裝料，操作方便，占地小，真空或充氣兩用。適用于金屬材料高溫燒結、熱處理、脫氣、金屬陶瓷化、粉末燒結、熒光粉等處理。也適用于無機非金屬材料的高溫燒結等處理。還適用于材料的真空釬焊處理。

二、真空鉬絲爐結構說明

1.全不銹鋼結構，外表亞光處理，內部精密拋光處理。

2.底裝料式，操作方便。

3.結構爐體，結構電極，技術。

4.擴散泵+直聯(lián)式機械泵+高真空全不銹鋼擋板閥性能可靠。

5.底部可移動式結構，搬運方便。

6.金屬鉬絲加熱，全金屬隔熱屏，無碳污染問題，*技術使用不變形。

7.極限真空度達到1×10-3Pa

 

 

 GR.VMWF系列真空鉬絲爐型號及規(guī)格

 

型號

爐膛尺寸（mm）

（DxH）

功率

（KW）

zui高溫度

（℃）

額度溫度

（℃）

加熱元件

電壓

（V）

GR.VMWF8/17

Ф80×100

25

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF15/17

Ф150×200

30

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF20/17

Ф200×300

36

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF30/17

Ф300×400

40

1700

1550

鉬絲

380

 

：，咨詢

 

另：我公司可以根據客戶具體要求進行非標設計與制造。

 

 

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